哈西奈德溶液

哈西奈德溶液

盐酸布替萘芬乳膏

本品主要成份为：哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松）。

主要成份为盐酸布替萘芬。 化学名：N-[4-（1，1-二甲基乙基）苄基]-N-甲基-1-萘甲胺盐酸盐 分子式：C23H27N.HCl；C23H28ClN 分子量：353.19

北京曙光药业有限责任公司

山东明仁福瑞达制药股份有限公司

国药准字H11021030

国药准字H20183065

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于由真菌等引起的足趾癣、体癣、股癣及汗斑的局部治疗。

外涂患处每日早晚各一次。

外用。每次适量搽于患处，用于足趾癣时，一天2次，连用7天或一天1次，连用4周；用于体癣、股癣时，一天3次。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。4.痤疮、酒渣鼻。5.眼睑部用药（有引起青光眼的危险）。6.渗出性皮肤病。7.面部不宜应用。

对本品过敏者禁用。

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于由真菌等引起的足趾癣、体癣、股癣及汗斑的局部治疗。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张（尤其面部）、皮肤萎缩、萎缩纹（青少年易发生）皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

少于2％患者有接触性皮炎、红斑、刺激、干燥、瘙痒、烧灼感及症状加重等不良反应。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

1.仅供外用，切忌口服。不宜用于眼部、粘膜部位、急性炎症部位及破损部位。2.用药部位如有烧灼感、红肿等情况应停药，并将局部药物洗净，必要时向医师咨询。3.本品涂敷后不必包扎。4.孕妇及哺乳期妇女慎用。5.儿童应在医师指导下使用。6.对本品过敏者禁用，过敏体质者慎用。7.本品性状发生改变时禁止使用。8.请将本品放在儿童不能接触的地方。9.儿童必须在成人监护下使用。10.如正在使用其他药品，使用本品前请咨询医师或药师。