哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

复方克霉唑乳膏(II)

本品主要成份为哈西奈德

本品为复方制剂，其组份为：每克乳膏含二丙酸倍他米松0.64mg(相当于倍他米松0.5mg)，克霉唑10mg，硫酸庆大霉素(以庆大霉素计)1.0mg。

通药制药集团股份有限公司

香港澳美制药厂有限公司北京代表处

国药准字H22022341

国药准字HC20160022

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

适用于对皮质类固醇药物敏感的皮肤炎性疾病(如接触性皮炎、湿疹、神经性皮炎等伴发细菌和真菌感染)。

外涂患处，每日早晚各一次。

每日二次:先将患处清洗，将小量乳膏涂于患处，然后轻轻摩擦，使其充分渗入皮肤。为保证治疗各种皮肤病的疗效，用药疗程应足够，每个疗程根据个别患者及深浅情况而定或遵医生指示使用。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。痤疮、酒渣鼻。4.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。5.渗出性皮肤病。

偶见色素减退、灼痛、红斑、渗出、瘙痒等。可出现皮肤变薄，毛细血管扩张。可见皮肤干燥，多毛，萎缩纹，对感染的易感性增加等。长期用药可能会引起皮质功能亢进症，表现痤疮，满月脸，骨质疏松等。

孕妇及哺乳期妇女用药：孕妇及哺乳期妇女应在医师指导下，权衡利弊后慎用。儿童用药：婴儿或幼儿不宜长期或大面积使用。老年用药：老年患者慎用。

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

适用于对皮质类固醇药物敏感的皮肤炎性疾病(如接触性皮炎、湿疹、神经性皮炎等伴发细菌和真菌感染)。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张、皮肤萎缩、萎缩纹皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。 请仔细阅读说明书并遵医嘱使用。

1)长期使用倍他米松外用药物，可能会出现内服时引起的副作用。 2)长期使用庆大霉素可能引致抗药细菌进度生长。 3)如大面积使用本品或使用封闭性敷料，倍他米松或庆大霉素在体内的吸收将会增加而产生副作用。 4)避免长期用于细嫩皮肤及面部，尽量避免在开放性伤口或损伤皮肤使用，如必须使用，应加倍小心。 5)使用时如发生刺激反应或过敏反应，应停药并进行适当治疗。