哈西奈德乳膏

哈西奈德乳膏

复方曲安奈德乳膏

本品主要成份为哈西奈德

本品为复方制剂，其组份为每l克内含曲安奈德1.O毫克、制霉菌素100,000单位、硫酸新霉索(按新霉紊计)2500单位和短杆菌肽250单位。

马应龙药业集团股份有限公司

中美上海施贵宝制药有限公司

国药准字H42021314

国药准字H31022515

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

适用于同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎。

外涂患处，每日早晚各一次。

局部外用。一日2～4次，涂擦患处。其它详见说明书。

1.对该药过敏者。2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。3.溃疡性病变。痤疮、酒渣鼻。4.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。5.渗出性皮肤病。

长期使用可引起局部皮肤萎缩、毛细血管扩张、痤疮样皮炎、毛囊炎、色素沉着及继发感染。详细内容见说明书。

孕妇及哺乳期妇女用药：尚缺乏孕妇及哺乳期妇女用药的临床数据。在权衡利弊情况下．尽可能避免使用。详细内容见说明书。儿童用药：婴儿及儿童不宜使用。详细内容见说明书。老年用药：老年患者应避免长期、大量使用。

适用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

适用于同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张、皮肤萎缩、萎缩纹皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多，可发生全身反应，尤其是低龄儿童和婴幼儿，出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓，突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象，应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。 请仔细阅读说明书并遵医嘱使用。

1.应避免接触口腔、鼻部等粘膜。 2.本品含有多种抗生素，长期使用会导致不敏感细菌和霉菌等的过量生长，而引起二重感染，故本品治疗量最多不超过2周。 3.皮质类固醇激素可增加微生物感染的机会。因此，本品仅在同时伴有敏感真菌和敏感细菌感染的皮炎患者方可使用。 4.本品含有新霉素能引起肾中毒和耳中毒，对于大面积烧伤、营养性溃疡等病人应慎用。 5.有明显循环系统疾病的患者慎用。 6.应.避免全身大面积使用及长期使用。 8.涂药处如有灼烧、瘙痒、红肿时，应停止用药。 9.请将此药置于儿童不能触及处。